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Laboratoire de Physique des Gaz et des Plasmas<\/h3>\n\n\n\n
Bat 210, rue Henri Becquerel<\/p>\n\n\n\n
91405 Orsay Cedex<\/p>\n\n\n\n
T\u00e9l : (33) 01 69 15 72 51<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n
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L\u2019\u00e9quipe TMP-D&S, anim\u00e9e par T. Minea, regroupe la majeure partie des activit\u00e9s de recherche sur les plasmas basse pression du LPGP. Cette \u00e9quipe dispose d\u2019un large parc de r\u00e9acteurs plasma sous vide concernant les activit\u00e9s \u2018D\u00e9charges et Surfaces\u2019 (D&S), mais \u00e9galement de nombreux mod\u00e8les de divers plasmas, pour les activit\u00e9s \u2018Th\u00e9orie et Mod\u00e9lisation des Plasmas\u2019 (TMP).<\/p>\n\n\n\n
Les \u00e9tudes scientifiques men\u00e9es dans l\u2019\u00e9quipe TMP – D&S concernent la physique des d\u00e9charges et les m\u00e9canismes de d\u00e9p\u00f4t de puissance permettant l\u2019ionisation des gaz et les r\u00e9actions engendr\u00e9es. Ces \u00e9tudes visent la compr\u00e9hension des m\u00e9canismes gouvernant ses d\u00e9charges permettant de ma\u00eetriser et de contr\u00f4ler les plasmas, allant de la conception de nouveaux proc\u00e9d\u00e9s jusqu’\u00e0 l\u2019analyse des d\u00e9p\u00f4ts effectu\u00e9s par voie plasma. Ses r\u00e9alisations puisent dans les connaissances acquises soit par la caract\u00e9risation exp\u00e9rimentale du plasma, soit par le biais de la mod\u00e9lisation et des simulations num\u00e9riques.<\/p>\n\n\n\n
Les recherches de l\u2019\u00e9quipe TMP-D&S concernent la production, la compr\u00e9hension, l\u2019am\u00e9lioration et l\u2019optimisation des plasmas froids, mais \u00e9galement la production de particules charg\u00e9es (\u00e9lectron et ions), ainsi que des esp\u00e8ces actives (m\u00e9tastables, radicaux, etc.) en phase gazeuse ou en interaction avec des surfaces. Avec la r\u00e9duction des dimensions du plasma (micro-plasma) certains travaux concernent les d\u00e9charges pouvant fonctionner \u00e0 la pression atmosph\u00e9rique, alors que d\u2019autres concernent les d\u00e9charges sous vide (sans gaz inject\u00e9). Privil\u00e9giant toujours une d\u00e9marche fondamentale, les recherches men\u00e9es au sein de cette \u00e9quipe d\u00e9bouchent r\u00e9guli\u00e8rement sur des applications telles que le d\u00e9p\u00f4t de couches minces, le traitement plasma des polym\u00e8res, le contr\u00f4le de la combustion, ou la conception de nouveaux dispositifs et proc\u00e9d\u00e9s plasmas. Certains travaux se placent \u00e0 l\u2019interface entre les plasmas froids et les plasmas chauds, tels que les recherches relatives au projet ITER o\u00f9 des plasmas froids sont cr\u00e9\u00e9s par des particules de tr\u00e8s haute \u00e9nergie (injecteur de neutres, plasma de bord, etc.), le rayonnement ionisant (synchrotron) ou la tenue sous tr\u00e8s hautes tensions (MegaVolts).<\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n
L\u2019objectif de nos \u00e9tudes porte sur la compr\u00e9hension des m\u00e9canismes fondamentaux permettant l\u2019ionisation des gaz \u00e0 basse pression, la cr\u00e9ation du plasma, soit \u00e0 travers une d\u00e9charge \u00e9lectrique, soit par l\u2019interaction des rayonnements \u00e9nerg\u00e9tiques (ions, \u00e9lectrons, photons avec un gaz), soit par la d\u00e9tente d\u2019un gaz (vapeur) sous vide tout en appliquant de tr\u00e8s forts champ \u00e9lectriques.<\/p>\n\n\n\n
Historiquement, deux types de d\u00e9charge sont \u00e9tudi\u00e9es dans l\u2019\u00e9quipe TMP-D&S : magn\u00e9tron et microondes. Toutefois, ces connaissances ont permis d\u2019\u00e9tendre les recherches \u00e0 d\u2019autres d\u00e9charges comme celles g\u00e9n\u00e9rant des ions n\u00e9gatifs, produisant des particules charg\u00e9es pour alimenter des sources d\u2019ions ou d\u2019\u00e9lectrons, des sources d\u2019ions m\u00e9talliques, etc. L\u2019\u00e9quipe poss\u00e8de des comp\u00e9tences dans les plasmas magn\u00e9tis\u00e9s, le transport et l\u2019extraction de particules charg\u00e9es ou activ\u00e9es par plasma (jet d\u2019esp\u00e8ces \u00e0 basse pression), l\u2019ionisation des gaz induite par un rayonnement \u00e9nerg\u00e9tique, mais aussi l\u2019interaction plasma-surface, les traitement de surface et le d\u00e9p\u00f4t en phase vapeur (PVD- Physical Vapor Deposition) en atmosph\u00e8re inerte ou r\u00e9active.<\/p>\n\n\n\n
Plus r\u00e9cemment, nos recherches visent des sujets d\u2019int\u00e9r\u00eat socio-\u00e9conomique, l\u2019optimisation de nombreux proc\u00e9d\u00e9s plasmas ou la conception de nouveaux dispositifs \u00e0 fort potentiel innovant.<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n
Les projets de l\u2019\u00e9quipe pour les ann\u00e9es \u00e0 venir se focalisent sur 5 axes de recherches :<\/p>\n\n\n\n
\u2022 Mod\u00e9lisation num\u00e9rique de la formation d’un faisceau de particules \u00e0 haute \u00e9nergie (100 keV – 1 MeV) pour ITER & le CERN<\/a> <\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n \u2022 Caract\u00e9risation exp\u00e9rimentale du plasma magn\u00e9tron<\/a> <\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n \u2022 Microd\u00e9charges micro-ondes dans des fibres et des capillaires<\/a> \u2022 M\u00e9thodes Statistiques – Fragmentation mol\u00e9culaire<\/a> <\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n \u2022 Source d’\u00e9nergie pour la fabrication additive haute \u00e9nergie<\/a> Bat 210, rue Henri Becquerel<\/p>\n\n\n\n 91405 Orsay Cedex<\/p>\n\n\n\n T\u00e9l : (33) 01 69 15 72 51<\/p>\n<\/div>\n\n\n\n
\u2022 Mod\u00e9lisation de l\u2019\u00e9mission \u00e9lectronique pour la tenue ultra-haute tension et les sources d\u2019\u00e9lectrons<\/a><\/p>\n\n\n\n\n\n2) D\u00e9charges magn\u00e9trons<\/strong><\/em><\/h3>\n\n\n\n
\u2022 Mod\u00e9lisation du plasma magn\u00e9tron<\/a>
\u2022 D\u00e9p\u00f4t de couches ultra-minces et nanoparticules<\/a><\/p>\n\n\n\n\n\n3) D\u00e9charges micro-ondes <\/strong><\/em><\/h3>\n\n\n\n
\u2022 Traitements de surface par plasmas micro-ondes<\/a><\/p>\n<\/div>\n<\/div>\n\n\n\n\n\n4) Fragmentation et Corr\u00e9lations<\/strong><\/em><\/h3>\n\n\n\n
\u2022 Syst\u00e8mes quantiques libres corr\u00e9l\u00e9s<\/a><\/p>\n\n\n\n\n\n5) Fabrication Additive<\/strong><\/em><\/h3>\n\n\n\n
\u2022 Mod\u00e9lisation 3D auto-coh\u00e9rente de la mise en forme d\u2019un faisceau d\u2019\u00e9lectrons<\/a>
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